BS.195014650-SS65R190S2- 上海超致半导体科技有限公司

2020年01月17日，国家知识产权局在集成电路布图设计专用权公告中公布了登记号为 BS.195014650的集成电路，该集成电路名称为 SS65R190S2，由上海超致半导体科技有限公司作为布图设计权利人。

集成电路布图设计专用权公告具体内容如下：

布图设计登记号：

BS.195014650

布图设计申请日：

2019年09月30日

公告日期：

2020年01月17日

公开（公告）号：

25101

布图设计名称：

SS65R190S2

布图设计结构：

MOS

布图设计技术：

NMOS

布图设计功能：

线性

布图设计权利人：

上海超致半导体科技有限公司

布图设计权利人国籍：

中国

布图设计创作人：

任留涛

布图设计创作完成日：

2018年01月12日

代理人：

胡彬

代理机构：

北京品源专利代理有限公司

商业用途开始日期：

-

布图设计权利人地址：

上海市浦东新区上海自由贸易试验区芳春路400号1幢3层

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同日公布集成电路设计

拖动滑块完成拼图

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