BS.195612612-一种高压非对称双向可控硅器件- 湖南静芯微电子技术有限公司

2020年01月17日，国家知识产权局在集成电路布图设计专用权公告中公布了登记号为 BS.195612612的集成电路，该集成电路名称为一种高压非对称双向可控硅器件，由湖南静芯微电子技术有限公司作为布图设计权利人。

集成电路布图设计专用权公告具体内容如下：

布图设计登记号：

BS.195612612

布图设计申请日：

2019年10月10日

公告日期：

2020年01月17日

公开（公告）号：

25092

布图设计名称：

一种高压非对称双向可控硅器件

布图设计结构：

其他

布图设计技术：

其他

布图设计功能：

其他

布图设计权利人：

湖南静芯微电子技术有限公司

布图设计权利人国籍：

中国

布图设计创作人：

汪洋、李婕妤、董鹏、金湘亮、李幸

布图设计创作完成日：

2019年09月20日

代理人：

-

代理机构：

-

商业用途开始日期：

-

布图设计权利人地址：

湖南省长沙市长沙经济技术开发区螺丝塘路德普企业公元6栋C座303

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同日公布集成电路设计

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